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产品分类 / PRODUCT
更新时间：2024-09-23 
浏览次数：468
| 波长 | 185纳米、254纳米 |
|---|---|
| 目的 | 清洁/修改 |
| 行业 | 半导体制造 |
| 待安装设备 | 半导体清洗设备 |
UV照射设备用于清洗半导体晶圆。紫外线照射会产生臭氧，去除晶圆表面的有机物。半导体晶圆紫外臭氧清洗设备可用于原型/开发和批量生产。原型机和开发机是半自动的，生产能力低，而量产机是自动化机。
UV照射设备采用185nm和254nm汞灯作为光源。当185nm紫外线被氧气吸收时，产生臭氧（O3）并产生活性氧。
更换晶圆周边曝光光源，成本降低30%以上
目的
接触
行业
半导体制造
设备
涂布机开发商
波长
365nm
任务
初始成本和运行成本降低
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